光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體集成電路的關(guān)鍵一環(huán)，其工作原理如圖所示。光源發(fā)出強(qiáng)紫外光，調(diào)整鏤空掩膜版和縮圖透鏡之間的距離，使光通過二者后，恰好能在硅片上成清晰的像，從而實(shí)現(xiàn)納米級(jí)集成電路的“雕刻”，下列說法錯(cuò)誤的是（ ?。?/h1>
【考點(diǎn)】凸透鏡成像規(guī)律的應(yīng)用．
【答案】D
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布：2024/5/27 14:0:0組卷：156引用：1難度：0.7
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發(fā)布：2024/12/24 4:30:1組卷：78引用：5難度：0.9
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