氮氧化物是大氣污染物之一，利用炭粉還原消除一氧化氮的反應(yīng)為：C（s）+2NO（g）?N2（ g）+CO2（g）?；卮鹣铝袉?wèn)題：
（1）已知：N2（g）+O2（g）═2NO（g）△H=+akJ?mol-1
C（s）+O2（g）═CO2（g）△H=-bkJ?mol-1 （ a,b均大于0）
反應(yīng)C（s）+2NO（g）?N2（g）+CO2（g）的△H＜＜0（填”＞”、“=”、“＜”），若該正反應(yīng)的活化能為c kJ?mol-1，則逆反應(yīng)的活化能為a+b+ca+b+ckJ?mol-1（用a、b、c表示）。有利于加快該反應(yīng)速率的條件是升溫、增大壓強(qiáng)、增大反應(yīng)物濃度、加入催化劑等升溫、增大壓強(qiáng)、增大反應(yīng)物濃度、加入催化劑等。（任寫(xiě)一條）
（2）對(duì)比研究活性炭負(fù)載鈣、鑭氧化物的反應(yīng)活性。在三個(gè)反應(yīng)器中分別加入C、CaO/C、La2O3/C，通入NO使其濃度達(dá)到0.1mol?L-1。不同溫度下，測(cè)得反應(yīng)2小時(shí)時(shí)NO 去除率如圖所示：
①據(jù)圖分析，溫度在500℃以內(nèi)，三種情況下反應(yīng)的活化能最小的是CaO/CCaO/C（填C、CaO/C、La2O3/C）。A點(diǎn)不是不是（填“是”或“不是”）平衡點(diǎn)，理由是A點(diǎn)NO去除率隨溫度升高增大A點(diǎn)NO去除率隨溫度升高增大。
②400℃時(shí)，CaO/C催化下反應(yīng)速率v（NO）=0.0180.018mol?L-1?h-1，該溫度下此反應(yīng)的平衡常數(shù)Kp=144，則反應(yīng)達(dá)平衡時(shí)NO的去除率為96%96%。
③上述實(shí)驗(yàn)中，400℃時(shí)，若要實(shí)現(xiàn)反應(yīng)2小時(shí)La2O3/C對(duì)NO 的去除率達(dá)到36%，則可能采取的措施是BDBD。
A．降低溫度
B．壓縮體積
C．恒容下，向體系中通入氦氣
D．恒容下，向體系中通入更多NO
【答案】＜；a+b+c；升溫、增大壓強(qiáng)、增大反應(yīng)物濃度、加入催化劑等；CaO/C；不是；A點(diǎn)NO去除率隨溫度升高增大；0.018；96%；BD
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：14引用：3難度：0.6
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1．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車(chē)領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H2，請(qǐng)寫(xiě)出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車(chē)領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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