我國科學(xué)家合成高選擇性光催化劑,在溫和條件下利用CO2合成CH3CHO:
反應(yīng)1:2CO2(g)+5H2(g)?CH3CHO(g)+3H2O(g)△H1=-170kJ?mol-1
反應(yīng)2:CO2(g)+4H2(g)?CH4(g)+2H2O(g)△H2=-178kJ?mol-1
回答下列問題:
(1)2CH4(g)+H2(g)?CH3CHO(g)+3H2(g)ΔH=+186+186kJ?mol-1。
(2)一定溫度下,在剛性密閉容器中充入一定量CO2和H2,發(fā)生反應(yīng)1。
①下列情況表明該反應(yīng)達(dá)到平衡狀態(tài)的是 DD(填標(biāo)號(hào))。
A.混合氣體密度保持不變
B.CO2(g)消耗速率和H2O(g)生成速率之比為2:3
C.CH3CHO(g)、H2O(g)的濃度之比保持不變
D.混合氣體平均摩爾質(zhì)量保持不變
②達(dá)到平衡之后,其他條件不變僅改變下列一個(gè)條件,能提高CO2的平衡轉(zhuǎn)化率的是 CC(填標(biāo)號(hào))。
A.增大CO2濃度
B.充入惰性氣體
C.降低溫度
D.加入高效催化劑
(3)已知:反應(yīng)2CO2(g)+5H2(g)?CH3CHO(g)+3H2O(g)生成CH3CHO的凈反應(yīng)速率為v凈=k正c2(CO2)?c5(H2)-k逆c(CH3CHO)?c3(H2O)(k正、k逆分別表示正、逆反應(yīng)速率常數(shù),只與溫度、催化劑有關(guān),與濃度無關(guān))。該反應(yīng)的平衡常數(shù)K與k正、k逆的關(guān)系式為 k正k逆=Kk正k逆=K。k正、k逆的負(fù)對(duì)數(shù)用pk表示,與溫度(T)關(guān)系如圖1所示。其中代表pk正與T關(guān)系的直線是 cc(填標(biāo)號(hào)),判斷理由是 正反應(yīng)是放熱反應(yīng),升溫,平衡常數(shù)K減小,即k正增大的倍數(shù)小于k逆增大的倍數(shù)正反應(yīng)是放熱反應(yīng),升溫,平衡常數(shù)K減小,即k正增大的倍數(shù)小于k逆增大的倍數(shù)。
(4)一定溫度下,在剛性密閉容器中充入1molCO2(g)和xmolH2(g),僅發(fā)生反應(yīng)1,測得平衡體系中CH3CHO的體積分?jǐn)?shù)(φ)與x關(guān)系如圖2所示。在e、f、g、h4點(diǎn)中,CH3CHO產(chǎn)率最高的是 hh(填字母),f點(diǎn)對(duì)應(yīng)體系中H、O原子個(gè)數(shù)比接近 5:25:2。
(5)一定溫度下,在剛性密閉容器中充入2molCO2和5molH2,發(fā)生反應(yīng)1和2,達(dá)到平衡時(shí)測得CH3CHO的選擇性為80%,CO2的平衡轉(zhuǎn)化率為45%,總壓強(qiáng)為560kPa。反應(yīng)1的平衡常數(shù)Kp=40×14031102×260540×14031102×2605(只列計(jì)算式,不帶單位)。[已知:CH3CHO的選擇性=n(CH3CHO)n(CH3CHO)+n(CH4)×100%分的分壓計(jì)算的平衡常數(shù)為Kp,分壓=總壓×物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)]
k
正
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k
正
k
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(
C
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)
n
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3
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)
+
n
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)
【答案】+186;D;C;=K;c;正反應(yīng)是放熱反應(yīng),升溫,平衡常數(shù)K減小,即k正增大的倍數(shù)小于k逆增大的倍數(shù);h;5:2;
k
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【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:75引用:7難度:0.4
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1.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說法錯(cuò)誤的是( ?。?/h2>
發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.5 -
2.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉栴}:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑,遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2,請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的最佳措施是
(4)比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)=k1k2
(5)硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強(qiáng)的是
已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.2 -
3.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉栴}:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
③比較a、b處反應(yīng)速率的大小:va=k1k2發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.5
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