當前位置： 2021-2022學年上海市晉元高中高一（上）期中化學試卷> 試題詳情

生產(chǎn)芯片的半導體材料有硅、鍺、砷化鎵等，應用比較廣泛的是硅。硅可由石英砂（主要成分是二氧化硅）制得，制備高純硅的主要工藝流程如圖1所示：

資料：①SiHCl₄能與H₂O劇烈反應，在空氣中易自燃；②粗SiHCl₃（沸點33.0℃）中含有少量SiC1₄（沸點57.6℃）和HCl（沸點-84.7℃）
（1）流程①焦炭體現(xiàn)了
還原性
還原性
（填“氧化性”或“還原性”）。
（2）流程③提純SiHCl₃的操作是
蒸餾
蒸餾
。
（3）流程④的化學反應為置換反應，寫出其化學方程式：
SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl
SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl
。
流程④制備高純硅的裝置如圖2（熱源及夾持裝置略去）：

（4）若要從下列玻璃儀器中選擇部分來組裝A處的氣體發(fā)生裝置，需要的是
abg
abg
（填選項編號）：
a.分液漏斗
b.燒瓶
c.酒精燈
d.大試管
e.漏斗
f.燒杯
g.導管
裝置B中的試劑是
濃硫酸
濃硫酸
（填試劑名稱）；裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是
使進入燒瓶的液態(tài)SiHCl₃變?yōu)闅怏w
使進入燒瓶的液態(tài)SiHCl₃變?yōu)闅怏w
。
（5）反應一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是
有固體物質(zhì)生成
有固體物質(zhì)生成
。
（6）為保證制備高純硅實驗的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應溫度以及
防止生成的Si被氧化
防止生成的Si被氧化
，
防止H₂與O₂混合加熱發(fā)生爆炸
防止H₂與O₂混合加熱發(fā)生爆炸
，該流程中能夠循環(huán)利用的物質(zhì)是
HCl
HCl
。

【考點】制備實驗方案的設(shè)計．

【答案】還原性；蒸餾；SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl；abg；濃硫酸；使進入燒瓶的液態(tài)SiHCl₃變?yōu)闅怏w；有固體物質(zhì)生成；防止生成的Si被氧化；防止H₂與O₂混合加熱發(fā)生爆炸；HCl

【解答】

【點評】

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發(fā)布：2024/4/20 14:35:0組卷：9引用：1難度：0.5

相似題

1．某化學小組利用如圖裝置進行某些氣體的制備和性質(zhì)實驗，圖中加持裝置有省略

（1）為制取干燥氨氣，可將裝置C與裝置D連接，則裝置D中的固體宜選用

a.堿石灰 b.無水氯化鈣 c.五氧化二磷 d.生石灰
（2）裝置A、E、E連接可制取純凈干燥的氯氣，則兩個E裝置內(nèi)的藥品依次是

（3）裝置F可用于探究氯氣和氨氣反應，實驗室打開開關(guān)1、3，關(guān)閉2，先向燒瓶中通入

，然后關(guān)閉1、3，打開2，向燒瓶中緩慢通入一定量的另一種氣體．實驗一段時間后燒瓶內(nèi)出現(xiàn)濃厚的白煙并在容器內(nèi)壁凝結(jié)，請設(shè)計一個實驗方案鑒定該固體中的陽離子

．
（4）利用裝置A、E，可設(shè)計實驗比較氯離子和溴離子的還原性強弱，能證明結(jié)論的實驗現(xiàn)象是

．若利用裝置A、E進行乙烯與溴水反應的實驗，必須對裝置A進行的改動是

．
（5）將裝置B、C分別于F相連后，進行硫化氫和二氧化硫反應的實驗，燒杯中的試劑所起的作用是

．
發(fā)布：2024/11/7 8:0:2組卷：17引用：1難度：0.1
解析
2．氯氣和氨氣是重要的工業(yè)原料，二者在常溫下混合即可發(fā)生反應。某興趣小組同學擬用如圖裝置設(shè)計實驗來探究純凈、干燥的氯氣與氨氣的反應?；卮鹣铝袉栴}：

（1）氣體的制備與凈化
①氯氣的發(fā)生裝置可以選擇上圖中的

，反應的化學方程式為

。
②干燥氨氣選用圖中的

。氯氣的凈化裝說的連接順序為b→（按氣流順序，用小寫字母表示）。
（2）氨氣與氯氣的反應
①上圖中的裝置連接順序為A→

→

→

→

→B（用大寫字母表示）。
氨氣的入口是

（填“e”或“f”），原因是

。裝置D內(nèi)出現(xiàn)濃厚的煙并在容器內(nèi)壁凝結(jié)，另一生成物是空氣的主要成分之一，試寫出該反應的化學方程式：

，寫出一種此反應的工業(yè)用途：

。
②設(shè)計一個實驗方案鑒定該固體是氯化銨

（要求寫出操作、現(xiàn)象及結(jié)論）：
若從裝置D的G處逸出的尾氣中含有少量Cl₂，為防止其污染環(huán)境，可將尾氣通過

盛有的洗氣瓶。
發(fā)布：2024/11/8 8:0:1組卷：5引用：1難度：0.5
解析
3．某化學興趣小組利用如圖甲裝置制取氨氣并探究氨氣的有關(guān)性質(zhì)。

（1）裝置A中燒瓶內(nèi)試劑可選用

（填序號）。
a.堿石灰　b.濃硫酸　c.五氧化二磷　d.NaOH固體
（2）若探究氨氣的溶解性，標準狀況下，裝置D中收集滿氨氣后，關(guān)閉K₁、K₂，打開K₃，引發(fā)噴泉的實驗操作是

；完成噴泉實驗后，裝置D中充滿液體，則裝置D中溶液的物質(zhì)的量濃度為

。
（3）K₂的導管末端需要連接氨氣的吸收裝置，則不能在K₂的導管末端連接圖乙中的

裝置（填序號Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ）。
（4）若探究氨氣的還原性，需關(guān)閉K₁、K₃，K₂連接純凈、干燥氯氣的裝置。
①D中氨氣與氯氣反應產(chǎn)生白煙，同時生成一種化學性質(zhì)穩(wěn)定氣體單質(zhì)，該反應可用來檢驗氯氣管道是否有泄漏，則該反應的化學方程式為

。
②尾氣可用C裝置處理，若尾氣中含有少量Cl₂，則C裝置中應盛放

溶液（填化學式），反應的離子方程式為

。
發(fā)布：2024/11/8 8:0:1組卷：5引用：1難度：0.6
解析

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