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二氧化碳甲烷化技術(shù)被認(rèn)為是二氧化碳循環(huán)再利用最有效的技術(shù)之一?;卮鹣铝袉?wèn)題:
菁優(yōu)網(wǎng)
(1)Pd-MgO/SiO2界面上甲烷化的過(guò)程如圖1。
下列說(shuō)法正確的是
CD
CD
(填標(biāo)號(hào))。
A.整個(gè)循環(huán)過(guò)程中鎂的價(jià)態(tài)不斷發(fā)生改變
B.循環(huán)中Pd、MgO、SiO2均未參與反應(yīng)
C.氫分子在Pd表面被吸附并解離為氫原子
D.總反應(yīng)為4H2+CO2═CH4+2H2O
(2)已知CO2甲烷化過(guò)程中包含下列反應(yīng):
Ⅰ.CO2(g)+H2(g)?CO(g)+H2O(g)△H1=+42.1kJ?mol-1K1
Ⅱ.CO(g)+3H2(g)?CH4(g)+H2O(g)△H2=-206.5kJ?mol-1K2
保持壓強(qiáng)不變,在0.1MPa下,起始時(shí)充入3mol H2、1mol CO2,不同溫度下催化甲烷化時(shí),平衡時(shí)物質(zhì)(H2O未列出)的物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)與溫度的關(guān)系如圖2所示。
①總反應(yīng)CO2(g)+4H2(g)?CH4(g)+2H2O(g)的△H=
-164.4
-164.4
kJ?mol-1;其平衡常數(shù)K=
K1?K2
K1?K2
(用含K1、K2的代數(shù)式表示)。
②圖中X為CO2,則Y表示的物質(zhì)是
CH4
CH4
(填化學(xué)式)。
③溫度超過(guò)400℃時(shí),升高溫度,CO的物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)不斷增大,這是因?yàn)?!--BA-->
升高溫度,反應(yīng)I的平衡正向移動(dòng),反應(yīng)Ⅱ的平衡逆向移動(dòng),均使得CO的量增大
升高溫度,反應(yīng)I的平衡正向移動(dòng),反應(yīng)Ⅱ的平衡逆向移動(dòng),均使得CO的量增大
。
④圖中Q點(diǎn)時(shí)(對(duì)應(yīng)溫度下,可認(rèn)為體系中不含CO),CH4的壓強(qiáng)為
0.025
0.025
MPa,該溫度下,甲烷化總反應(yīng)的平衡常數(shù)為
2.048×105
2.048×105
(用分壓表示,分壓=總壓×物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))(MPa)2。

【答案】CD;-164.4;K1?K2;CH4;升高溫度,反應(yīng)I的平衡正向移動(dòng),反應(yīng)Ⅱ的平衡逆向移動(dòng),均使得CO的量增大;0.025;2.048×105
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書(shū)面同意,不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:8引用:2難度:0.4
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  • 菁優(yōu)網(wǎng)1.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v-v=kx2SiHCl3-kxSiH2Cl2xSiCl4,k、k分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是( ?。?/h2>

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.5
  • 菁優(yōu)網(wǎng)2.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題:
    (1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
    Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
    SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
    以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
     
    。
    (2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑,遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H2,請(qǐng)寫(xiě)出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
     
    。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作
     
    (填“氧化”或“還原”)劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     
    。
    (3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
    ①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
     
    ,該反應(yīng)是
     
    反應(yīng)(填“放熱”“吸熱”)。
    ②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的最佳措施是
     
    。
    (4)比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a
     
    v(填“>”“<”或“=”)。已知反應(yīng)速率v=k1x2_SiHCl3,
    v=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)
    k
    1
    k
    2
    =
     
    (保留3位小數(shù))。
    (5)硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強(qiáng)的是
     
    ,其原因是
     
    。
    已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.2
  • 菁優(yōu)網(wǎng)3.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉?wèn)題:
    (1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
    ①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
    ②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
    以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
     
    。
    (2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     
    。
    (3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
    ①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
     
    。該反應(yīng)是
     
    反應(yīng)(填“放熱”或“吸熱”)。②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的措施有
     
    。(答一種即可)
    ③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a
     
    vb(填“>”“<”或“=”)。已知反應(yīng)速率v=k1x2SiHCl3 v=k2xSiH2Cl2 xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)
    k
    1
    k
    2
    =
     
    (保留3位小數(shù))。

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.5
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