真空電阻蒸發(fā)鍍膜是在真空室中利用電阻加熱，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上形成均勻膜層。在一塊面積為S的方形基片上形成共有k層鋁分子組成的鍍膜，鋁膜的質(zhì)量為m。已知鋁的摩爾質(zhì)量為M，阿伏加德羅常數(shù)為N_A。
①求基片上每層鋁分子單位面積內(nèi)的分子數(shù)n；
②真空氣泵將真空室中的氣體壓強從p₀=1.0×10⁵Pa減小到p₁=1.0×10^-4Pa,設(shè)抽氣后真空室中氣體溫度與抽氣前相同，求抽氣前后真空室中氣體分子數(shù)之比。