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(一)氨氣(NH3)的合成是人類(lèi)科學(xué)技術(shù)上的重大突破。合成氨工藝的主要流程如圖1:
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(1)合成塔中的反應(yīng)必須在高溫、高壓并使用催化劑的條件下進(jìn)行。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
N2+3H2
催化劑
高溫高壓
2NH3
N2+3H2
催化劑
高溫高壓
2NH3
,該反應(yīng)所屬的基本反應(yīng)類(lèi)型是
化合反應(yīng)
化合反應(yīng)
。
(2)從合成塔排出的氣體屬于
混合物
混合物
(填“純凈物”或“混合物”)。
(3)在生產(chǎn)NH3的過(guò)程中,化合價(jià)發(fā)生改變的元素有
N、H
N、H
。
(二)從化合價(jià)和物質(zhì)類(lèi)別兩個(gè)維度認(rèn)識(shí)元素及其化合物性質(zhì)是重要的化學(xué)學(xué)習(xí)方式。A-E物質(zhì)是氧氣、五氧化二磷、氯酸鉀、水、過(guò)氧化氫5種物質(zhì)中的一種。部分元素的化合價(jià)與物質(zhì)類(lèi)別二維圖如圖2所示。
①X表示的物質(zhì)類(lèi)別為
單質(zhì)
單質(zhì)
(填“單質(zhì)”或“化合物”);
②C點(diǎn)表示的物質(zhì)化學(xué)式為
H2O2
H2O2

③寫(xiě)出E點(diǎn)物質(zhì)的陰離子符號(hào)
ClO3-
ClO3-
;
④E在實(shí)驗(yàn)室中轉(zhuǎn)化為A的化學(xué)方程式為
2KClO3
M
n
O
2
2KCl+3O2
2KClO3
M
n
O
2
2KCl+3O2
。

【答案】N2+3H2
催化劑
高溫高壓
2NH3;化合反應(yīng);混合物;N、H;單質(zhì);H2O2;ClO3-;2KClO3
M
n
O
2
2KCl+3O2
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書(shū)面同意,不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:14引用:1難度:0.4
相似題
  • 1.鈦因其硬度大、熔點(diǎn)高、常溫下耐酸堿、耐腐蝕等優(yōu)良的性能,被譽(yù)為“未來(lái)金屬”.我省有大型釩鈦磁鐵礦,由釩鈦磁鐵礦提取金屬鈦的主要工藝過(guò)程如圖:
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    (1)鈦鐵礦的主要成分是FeTiO3(鈦酸亞鐵),其中鈦的化合價(jià)為
     
    價(jià).
    (2)上述生產(chǎn)過(guò)程中得到的金屬鈦中混有少量金屬雜質(zhì),可加入
     
    除去.

    發(fā)布:2024/10/31 8:0:1組卷:10引用:3難度:0.5
  • 2.1909年,化學(xué)家哈伯用氮?dú)夂蜌錃庠诟邷馗邏簵l件下首次合成了氨氣,反應(yīng)原理是N2+3H2
    高溫高壓
    2NH3.氨氣具有可燃性,燃燒時(shí)發(fā)熱量高.近年,科學(xué)家發(fā)現(xiàn)用催化劑在常溫下就能合成氨氣,使其有望成為替代氫能的新一代能源.
    (1)用下面三幅模型圖表示合成氨氣的過(guò)程,則從反應(yīng)開(kāi)始到完成的排列順序?yàn)?!--BA-->
     

    菁優(yōu)網(wǎng)
    (2)氨氣燃燒時(shí)可能會(huì)生成氮氧化物而污染環(huán)境,但在一定條件下,氨氣燃燒的生成物卻沒(méi)有任何污染--生成空氣中體積分?jǐn)?shù)最多的氣體和水,該反應(yīng)原理用化學(xué)方程式表示是
     

    (3)如果氨氣不慎泄漏,在關(guān)閉閥門(mén)和防止明火的前提下,噴灑大量水霧即可.由可知氨氣可能具有的一條性質(zhì)是
     

    發(fā)布:2024/10/31 8:0:1組卷:16引用:1難度:0.7
  • 3.中安在線2014年2月15日?qǐng)?bào)道,安徽滁洲正在以石英資源為基礎(chǔ),打造培育千億元硅產(chǎn)業(yè)。石英的主要成分為二氧化硅,它是玻璃工業(yè)和陶瓷工業(yè)的原料,冶金工業(yè)的助熔劑。硅是太陽(yáng)能電池和電腦芯片不可缺少的材料。生產(chǎn)高純硅的流程示意圖如圖:
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    請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
    (1)二氧化硅與焦炭在高溫下反應(yīng)生成硅和一氧化碳。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     

    (2)蒸餾屬于
     
    變化(填“物理”或“化學(xué)”)。
    (3)整個(gè)制備過(guò)程必須達(dá)到無(wú)水無(wú)氧,若在H2還原SiHCl3過(guò)程中混入O2,可能引起的后果是
     

    發(fā)布:2024/10/31 8:0:1組卷:11引用:1難度:0.5
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