硅（Si）是一種重要的半導體材料，應用范圍很廣。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程如圖所示：
（1）硅屬于 非金屬非金屬（填“金屬”或“非金屬”）元素；
（2）寫出上述流程中一種氧化物的化學式 SiO2（或CO）SiO2（或CO）；
（3）上述流程中①、④反應的化學方程式為 SiO2+2C 高溫 Si+2CO↑SiO2+2C 高溫 Si+2CO↑； SiHCl3+H2 高溫 Si+3HClSiHCl3+H2 高溫 Si+3HCl。①和④反應中 CC、H2H2都具有還原性；
（4）如果還原SiHCl3過程中混入O2，可能引起的后果是 爆炸爆炸；
（5）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學式是 HClHCl。
高溫
高溫
高溫
高溫
【答案】非金屬；SiO2（或CO）；SiO2+2C Si+2CO↑；SiHCl3+H2 Si+3HCl；C；H2；爆炸；HCl
高溫
高溫
【解答】
【點評】
聲明：本試題解析著作權屬菁優(yōu)網(wǎng)所有，未經(jīng)書面同意，不得復制發(fā)布。
發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：16引用：2難度：0.8
相似題
-
1．新冠肺炎疫情防控期間，西安市各學校開展全域噴灑低濃度、有效成分是次氯酸鈉的“84”消毒液進行消毒。如圖所示是模擬制備“84”消毒液的流程（Cl2是一種黃綠色的有毒氣體）。請回答下列問題：
（1）NaOH的俗稱為（寫一種）。
（2）步驟Ⅱ中，通常用碳酸鈉溶液除去濾液中的氯化鈣雜質(zhì)，請寫出有關反應的化學方程式。
（3）電解水時，一般在水中加入少量NaOH以增強水的導電性，不能加入NaCl的原因是。發(fā)布：2025/1/3 8:0:1組卷：6引用：1難度：0.5 -
2．如圖是制取與貯存氫氣的一種方法，Mg2Cu是一種貯氫合金，吸氫后生成MgH2和MgCu2合金的混合物（M），MgH2+2HCl═MgCl2+2H2↑，下列說法不正確的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/31 8:0:1組卷：47引用：2難度：0.5 -
3．某種家用的消毒液的主要成分是次氯酸鈉（NaClO），制取NaClO的化學方程式為：Cl2+2NaOH=NaClO+NaCl+H2O，下列說法錯誤的是（ ?。?/h2>
發(fā)布：2025/1/3 8:0:1組卷：71引用：1難度：0.7
把好題分享給你的好友吧~~