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硅(Si)是一種重要的半導(dǎo)體材料,應(yīng)用范圍很廣。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程如圖所示:
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(1)硅屬于
非金屬
非金屬
(填“金屬”或“非金屬”)元素;
(2)寫出上述流程中一種氧化物的化學(xué)式
SiO2(或CO)
SiO2(或CO)
;
(3)上述流程中①、④反應(yīng)的化學(xué)方程式為
SiO2+2C
高溫
Si+2CO↑
SiO2+2C
高溫
Si+2CO↑
;
SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl
SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl
。①和④反應(yīng)中
C
C
、
H2
H2
都具有還原性;
(4)如果還原SiHCl3過程中混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

(5)該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是
HCl
HCl
。

【答案】非金屬;SiO2(或CO);SiO2+2C
高溫
Si+2CO↑;SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl;C;H2;爆炸;HCl
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:16引用:2難度:0.8
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    (1)鈦鐵礦的主要成分是FeTiO3(鈦酸亞鐵),其中鈦的化合價為
     
    價.
    (2)上述生產(chǎn)過程中得到的金屬鈦中混有少量金屬雜質(zhì),可加入
     
    除去.

    發(fā)布:2024/10/31 8:0:1組卷:10引用:3難度:0.5
  • 2.1909年,化學(xué)家哈伯用氮氣和氫氣在高溫高壓條件下首次合成了氨氣,反應(yīng)原理是N2+3H2
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    (1)用下面三幅模型圖表示合成氨氣的過程,則從反應(yīng)開始到完成的排列順序為
     

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    (2)氨氣燃燒時可能會生成氮氧化物而污染環(huán)境,但在一定條件下,氨氣燃燒的生成物卻沒有任何污染--生成空氣中體積分數(shù)最多的氣體和水,該反應(yīng)原理用化學(xué)方程式表示是
     

    (3)如果氨氣不慎泄漏,在關(guān)閉閥門和防止明火的前提下,噴灑大量水霧即可.由可知氨氣可能具有的一條性質(zhì)是
     

    發(fā)布:2024/10/31 8:0:1組卷:16引用:1難度:0.7
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    請回答下列問題:
    (1)二氧化硅與焦炭在高溫下反應(yīng)生成硅和一氧化碳。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     
    。
    (2)蒸餾屬于
     
    變化(填“物理”或“化學(xué)”)。
    (3)整個制備過程必須達到無水無氧,若在H2還原SiHCl3過程中混入O2,可能引起的后果是
     

    發(fā)布:2024/10/31 8:0:1組卷:11引用:1難度:0.5
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