在冶金工業(yè)中，常以C作為還原劑，如溫度高于980 K時，氧化產(chǎn)物以CO為主，低于980 K時以CO₂為主。
（1）已知2CO（g）?CO₂（g）+C（s），T=980 K時△H-T△S=0。當(dāng)體系溫度低于980 K時，估計△H-T△S

小于

小于

0（選填“大于”、“小于”或“等于”）；當(dāng)體系溫度高于980 K時，該反應(yīng)

不能

不能

自發(fā)進行（填“能”或“不能”）。
（2）電子工業(yè)中清洗硅片上的SiO₂（s）的反應(yīng)為：SiO₂（s）+4HF（g）═SiF₄（g）+2H₂O（g）
△H（298.15 K）=-94.0 kJ?mol^-1
△S（298.15 K）=-75.8 J?mol^-1?K^-1。
設(shè)△H和△S不隨溫度變化而變化，則此反應(yīng)自發(fā)進行的溫度是

小于1240K

小于1240K

。