在半導(dǎo)體硅元件生產(chǎn)中，常用氫氟酸（HF）來清除硅表面的氧化膜，反應(yīng)原理可表示為SiO₂+6HF═H₂SiF₆+2X。已知硅元素顯+4價。下列說法錯誤的是（　?。?/h1>

A．生成物X的化學(xué)式是H₂O

B．H₂SiF₆中氟元素顯-1價

C．該反應(yīng)是復(fù)分解反應(yīng)

D．地殼中硅元素含量僅次于氧元素

【答案】C

【解答】

【點評】

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發(fā)布：2024/4/20 14:35:0組卷：37引用：3難度：0.5

相似題

1．某純凈的有機化合物2.6克，在純氧中充分燃燒，生成8.8克二氧化碳和1.8克水，該物質(zhì)組成中（　?。?/h2>
A．一定含有C、H、O三種元素
B．一定含有C、H元素不含有O元素
C．一定含有C、H元素，可能含有O元素
D．不能確定
發(fā)布：2024/11/5 2:0:2組卷：155引用：5難度：0.5
解析
2．50克鎂、鋅、鐵的混合物與足量的稀硫酸反應(yīng)得到混合溶液，蒸發(fā)后得到218克固體（已換算成無水硫酸鹽）．則反應(yīng)產(chǎn)生氫氣的質(zhì)量是（　?。?/h2>
A．2克 B．3克 C．3.5克 D．4.5克
發(fā)布：2024/11/3 13:30:1組卷：26引用：2難度：0.5
解析
3．右圖是一種“化學(xué)氧自救器”，主要用于煤礦井下應(yīng)急．它利用人呼出的二氧化碳與自救器藥罐中的生氧劑（超氧化鉀KO₂）接觸產(chǎn)生氧氣，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為：4KO₂+2CO₂═2X+3O₂，則X的化學(xué)式是

．
發(fā)布：2024/11/2 8:0:1組卷：2引用：1難度：0.7
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在半導(dǎo)體硅元件生產(chǎn)中，常用氫氟酸（HF）來清除硅表面的氧化膜，反應(yīng)原理可表示為SiO2+6HF═H2SiF6+2X。已知硅元素顯+4價。下列說法錯誤的是（ ?。?/h1>