CH4和H2O(g)在催化劑表面發(fā)生反應(yīng)CH4(g)+H2O(g)?CO(g)+3H2(g),該反應(yīng)僅在高溫下能自發(fā)進(jìn)行。
(1)該反應(yīng)的△H>>0(填“<”“>”或“=”)。
(2)T℃時,向2L密閉容器中投入2mol CH4和1.5mol H2O(g),發(fā)生上述反應(yīng),平衡時CH4的轉(zhuǎn)化率為50%,該溫度下反應(yīng)的平衡常數(shù)K=4.54.5。
(3)T℃時,向1 L密閉容器中投入2 mol CH4、1 mol H2O(g)、3 mol CO、2 mol H2,則反應(yīng)的v(正)<<v(逆) (選填“<”“>”或“=”)
(4)現(xiàn)向三個體積均為2L的恒容密閉容器Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ中,均分別充入1molCO 和2molH2發(fā)生反應(yīng):CO(g)+2H2(g)?CH3OH(g)△H1=-90.1kJ/mol。三個容器的反應(yīng)溫度分別為Tl、T2、T3且恒定不變。當(dāng)反應(yīng)均進(jìn)行到5min時H2的體積分?jǐn)?shù)如圖所示,其中只有一個容器中的反應(yīng)已經(jīng)達(dá)到平衡狀態(tài)。
①5min時三個容器中的反應(yīng)達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的是容器IIIIII(填序號)。
②0-5 min內(nèi)容器I中用CH3OH表示的化學(xué)反應(yīng)速率v(CH3OH)=0.067mol/(L?min)0.067mol/(L?min)。(保留兩位有效數(shù)字)
③當(dāng)三個容器中的反應(yīng)均達(dá)到平衡狀態(tài)時,CO轉(zhuǎn)化率最高的是容器II。
【答案】>;4.5;<;III;0.067mol/(L?min);I
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:6引用:2難度:0.6
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1.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說法錯誤的是( ?。?/h2>
A.343K時,反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率為22% B.343K時,反應(yīng)的平衡常數(shù)約為0.02 C.343K時,提高反應(yīng)物壓強或濃度可縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時間 D.a(chǎn)處的 =1.1,且a處的反應(yīng)速率大于b處的反應(yīng)速率v正v逆發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.5 -
2.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問題:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲氫材料又是有機合成中的常用試劑,遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2,請寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時,平衡轉(zhuǎn)化率為
②323.15K時,要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時間,可采取的最佳措施是
(4)比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時=k1k2
(5)硅元素最高價氧化物對應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強的是
已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.2 -
3.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉栴}:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時,平衡轉(zhuǎn)化率為
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a=k1k2發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.5
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