金礦提金時，用NaCN溶液浸取金生成Na[Au（CN）2]，再用鋅置換出金，產(chǎn)生的含氰廢水、廢氣需處理后排放。
已知：氫氰酸（HCN）有劇毒，易揮發(fā)，25℃時Ka（HCN）=6.25×10-10。
回答下列問題：
（1）[Au（CN）2]-存在著兩步電離平衡，其第二步電離方程式為 [Au（CN）]2+?Au3++CN-[Au（CN）]2+?Au3++CN-。
（2）配制NaCN溶液時，將NaCN固體溶于NaOH溶液中，再用蒸餾水稀釋配成溶液。原因是 CN-+H2O?HCN+OH-CN-+H2O?HCN+OH-（用離子方程式表示）。
（3）Cu2+可做H2O2氧化廢水中CN-的催化劑，氧化過程中總氰化物（CN-、HCN等）去除率隨溶液初始pH變化如圖1所示。
①在酸性條件下，H2O2也能氧化CN-但實際處理廢水時卻不在酸性條件下進(jìn)行的原因是 在酸性條件下CN-與氫離子結(jié)合，生成毒性非常強(qiáng)的HCN逸出造成污染在酸性條件下CN-與氫離子結(jié)合，生成毒性非常強(qiáng)的HCN逸出造成污染。
②當(dāng)溶液初始pH＞10時，總氰化物去除率下降的原因可能是 隨著pH升高，c（OH-）逐漸增大，Cu2+轉(zhuǎn)化為Cu（OH）2，催化效率降低隨著pH升高，c（OH-）逐漸增大，Cu2+轉(zhuǎn)化為Cu（OH）2，催化效率降低。
（4）利用反應(yīng)HCN（g）+H2O（g）催化劑NH3（g）+CO（g）ΔH＞0處理廢氣中HCN。將物質(zhì)的量均為1mol的HCN和H2O混合氣體通入密閉容器中發(fā)生反應(yīng)，HCN的去除率隨溫度的變化曲線如圖2所示。處理HCN時最適宜的溫度為 400℃400℃，此溫度下反應(yīng)進(jìn)行10min達(dá)平衡，該反應(yīng)的Kx=1616。
催化劑
【答案】[Au（CN）]2+?Au3++CN-；CN-+H2O?HCN+OH-；在酸性條件下CN-與氫離子結(jié)合，生成毒性非常強(qiáng)的HCN逸出造成污染；隨著pH升高，c（OH-）逐漸增大，Cu2+轉(zhuǎn)化為Cu（OH）2，催化效率降低；400℃；16
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/4/20 14:35:0組卷：5引用：1難度：0.7
相似題
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1．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2，請寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價氧化物對應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
2．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說法錯誤的是（ ）發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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