硫化氫（H2S）是一種有毒氣體，對環(huán)境和人體健康造成極大的危害，工業(yè)上采用多種方法減少H2S的排放。
（1）去除廢氣中H2S的相關熱化學方程式如下：
①2H2S（g）+3O2（g）═2H2O（l）+2SO2（g）△H=akJ?mol-1
②2H2S（g）+O2（g）═2H2O（l）+2S（s）△H=bkJ?mol-1
反應①自發(fā)進行的條件是 低溫低溫（填“高溫”“低溫”或“任意溫度”）。
（2）為了有效去除廢氣中的H2S，在燃燒爐中通入的H2S和空氣（O2的體積分數(shù)約為20%）的體積比一般控制在0.4，理由是 若大于0.4，H2S會有剩余，脫除效率低，如果小于0.4，則H2S會部分氧化成大氣污染物SO2若大于0.4，H2S會有剩余，脫除效率低，如果小于0.4，則H2S會部分氧化成大氣污染物SO2。
（3）在一密閉體積可變?nèi)萜髦校鹗紩r向該容器中充入H2S和CH4且n（H2S）：n（CH4）=2：1，發(fā)生反應：CH4（g）+2H2S（g）?CS2（g）+4H2（g），0.11MPa恒壓下，溫度變化對平衡時產(chǎn)物的物質(zhì)的量分數(shù)的影響如圖所示：
為提高H2S的平衡轉(zhuǎn)化率，除改變溫度外，還可采取的措施是 再充入一定量的甲烷（或提高CH4與H2S物質(zhì)的量比例，或?qū)S2液化分離出體系）再充入一定量的甲烷（或提高CH4與H2S物質(zhì)的量比例，或?qū)S2液化分離出體系）（列舉一條）。
N點對應溫度下，該反應的分壓表示的平衡常數(shù)表達式KP=p（CS2）p4（H2）p（CH4）p2（H2S）p（CS2）p4（H2）p（CH4）p2（H2S），平衡常數(shù)KP=8×10-48×10-4MPa。
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【答案】低溫；若大于0.4，H2S會有剩余，脫除效率低，如果小于0.4，則H2S會部分氧化成大氣污染物SO2；再充入一定量的甲烷（或提高CH4與H2S物質(zhì)的量比例，或?qū)S2液化分離出體系）；；8×10-4
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【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：20引用：1難度：0.5
相似題
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1．在催化劑作用下，可逆反應2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分數(shù)）。下列說法錯誤的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物LiAlH4既是金屬儲氫材料又是有機合成中的常用試劑，遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2，請寫出其水解反應化學方程式。LiAlH4在化學反應中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應后得甲硅烷及兩種鹽。該反應的化學方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關鍵步驟，此反應采用一定量的PA100催化劑，在不同反應溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關系如圖所示。
①353.15K時，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應是反應（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時，要縮短反應達到平衡的時間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應速率的大小：vavb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應的速率常數(shù)，與反應溫度有關，x為物質(zhì)的量分數(shù)，則在353.15K時=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價氧化物對應的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應后得甲硅烷及兩種鹽。該反應的化學方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關鍵步驟，此反應采用一定量的PA100催化劑，在不同反應溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關系如圖所示。
①353.15K時，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應是反應（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時，要縮短反應達到平衡的時間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應速率的大?。簐avb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應的速率常數(shù)，與反應溫度有關，x為物質(zhì)的量分數(shù)，則在353.15K時=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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