習(xí)近平主席在《中央城鎮(zhèn)化工作會(huì)議》發(fā)出號(hào)召：“讓居民望得見(jiàn)山、看得見(jiàn)水、記得住鄉(xiāng)愁”。消除含氮、硫、氯等化合物對(duì)大氣和水體的污染對(duì)建設(shè)美麗家鄉(xiāng)，打造宜居環(huán)境具有重要意義。
（1）以HCl為原料，用O2氧化制取Cl2，可提高效益，減少污染。反應(yīng)為：4HCl（g）+O2（g）CuO/CuCl22Cl2（g）+2H2O（g）ΔH=-115.4kJ?mol-1，通過(guò)控制合適條件，分兩步循環(huán)進(jìn)行，可使HCl轉(zhuǎn)化率接近100%。原理如圖1所示：
過(guò)程Ⅰ的反應(yīng)為：2HCl（g）+CuO（s） 200℃ CuCl2（s）+H2O（g）ΔH1=-120.4kJ?mol-1，過(guò)程Ⅱ反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為 2CuCl2（s）+O2（g）═2CuO（s）+2Cl2（g）△H2═+125.4kJ?mol-12CuCl2（s）+O2（g）═2CuO（s）+2Cl2（g）△H2═+125.4kJ?mol-1。
（2）容積均為1L的甲、乙兩個(gè)容器，其中甲為絕熱容器，乙為恒溫容器。相同溫度下，分別充入0.2mol的NO2，發(fā)生反應(yīng)：2NO2（g）?N2O4（g）ΔH＜0，甲中NO2的相關(guān)量隨時(shí)間變化如圖2所示。
①0～3s內(nèi)，甲容器中NO2的反應(yīng)速率增大的原因是 0～3s內(nèi)溫度升高對(duì)反應(yīng)速率影響大于濃度降低的影響0～3s內(nèi)溫度升高對(duì)反應(yīng)速率影響大于濃度降低的影響。
②甲達(dá)平衡時(shí)，溫度若為T℃，此溫度下的平衡常數(shù)K=225225。
③平衡時(shí)，K甲＜＜K乙，P甲＞＞P乙（填“＞”、“＜”或“=”）。
（3）工業(yè)上可用Na2SO3溶液吸收法處理SO2，25℃時(shí)用1mol?L-1的Na2SO3溶液吸收SO2，當(dāng)溶液pH=7時(shí)，溶液中各離子濃度的大小關(guān)系為 c（Na+）＞c（HSO3-）＞c（SO32-）＞c（H+）═c（OH-）c（Na+）＞c（HSO3-）＞c（SO32-）＞c（H+）═c（OH-）。（已知25℃時(shí)：H2SO3的電離常數(shù)Ka1=1.3×10-2，Ka2=6.2×10-8）
C
u
O
/
C
u
C
l
2
200
℃
【答案】2CuCl2（s）+O2（g）═2CuO（s）+2Cl2（g）△H2═+125.4kJ?mol-1；0～3s內(nèi)溫度升高對(duì)反應(yīng)速率影響大于濃度降低的影響；225；＜；＞；c（Na+）＞c（HSO3-）＞c（SO32-）＞c（H+）═c（OH-）
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：7引用：1難度：0.7
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1．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H2，請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大小：vavb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉?wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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