B、Si和P是組成半導體材料的重要元素?;卮鹣铝袉栴}
(1)基態(tài)B、Si和P中,單電子數(shù)最多的是 PP,電負性最大的是 PP。
(2)PCl3中心原子的雜化類型為 sp3sp3,BCl3與陰離子 CO2-3或NO-3等CO2-3或NO-3等互為等電子體。
(3)SiCl4極易與水反應,其反應機理如圖1所示。
①上述反應機理涉及的分子中屬于非極性分子的是 SiCl4和H4SiO4SiCl4和H4SiO4。(填化學式)
②關于上述反應機理的說法正確的是 BCBC。
A.Si的雜化方式一直沒有發(fā)生變化
B.H2O中O通過孤對電子與Si形成配位鍵
C.只涉及了極性共價鍵的斷裂與形成
(4)兩種含硅化合物的晶胞結構如圖2所示
①這兩種含硅化合物的化學式分別為 SiB6SiB6和 SiPSiP。
②Ⅰ的晶胞參數(shù)為apm,則Ⅰ的密度為 94a3NA×103094a3NA×1030g?cm-3。
③Ⅱ的晶胞參數(shù)為bpm,Si和P的原子半徑分別為r1pm和r2pm,則Ⅱ的空間占有率為 16π(r31+r32)3a3=16π(r31+r32)3b3×100%16π(r31+r32)3a3=16π(r31+r32)3b3×100%。
CO
2
-
3
NO
-
3
CO
2
-
3
NO
-
3
94
a
3
N
A
94
a
3
N
A
16
π
(
r
3
1
+
r
3
2
)
3
a
3
16
π
(
r
3
1
+
r
3
2
)
3
b
3
16
π
(
r
3
1
+
r
3
2
)
3
a
3
16
π
(
r
3
1
+
r
3
2
)
3
b
3
【答案】P;P;sp3;或等;SiCl4和H4SiO4;BC;SiB6;SiP;×1030;=×100%
CO
2
-
3
NO
-
3
94
a
3
N
A
16
π
(
r
3
1
+
r
3
2
)
3
a
3
16
π
(
r
3
1
+
r
3
2
)
3
b
3
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:36引用:2難度:0.5
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