為了加快實現(xiàn)我國高水平科技自立自強，某科技公司逐年加大高科技研發(fā)投入．圖1是該公司2013年至2022年的年份代碼x和年研發(fā)投入y（單位：億元）的散點圖，其中年份代碼1-10分別對應年份2013-2022．

根據(jù)散點圖，分別用模型①y=bx+a,②

y

=

c

+

d

x

作為年研發(fā)投入y關于年份代碼x的經(jīng)驗回歸方程模型，并進行殘差分析，得到圖2所示的殘差圖．結(jié)合數(shù)據(jù)，計算得到如下表所示的一些統(tǒng)計量的值：

y	t	10 ∑ i = 1 （ x i - x ） 2	10 ∑ i = 1 （ t i - t ） 2	10 ∑ i = 1 （ y i - y ） （ x i - x ）	10 ∑ i = 1 （ y i - y ） （ t i - t ）
75	2.25	82.5	4.5	120	28.35

表中

t

i

=

x

i

，

t

=

1

10

10

∑

i

=

1

t

i

．
（1）根據(jù)殘差圖，判斷模型①和模型②哪一個更適宜作為年研發(fā)投入y關于年份代碼x的經(jīng)驗回歸方程模型？并說明理由；
（2）根據(jù)（1）中所選模型，求出y關于x的經(jīng)驗回歸方程，并預測該公司2028年的高科技研發(fā)投入．
附：對于一組數(shù)據(jù)（x₁，y₁），（x₂，y₂），?，（x_n，y_n），其經(jīng)驗回歸直線

?

y

=

?

a

+

?

b

x??的斜率和截距的最小二乘估計分別為

?

b

=

n

∑

i

=

1

（

x

i

-

x

）

（

y

i

-

y

）

n

∑

i

=

1

（

x

i

-

x

）

2

，

?

a

=

y

-

?

b

x

．