為了加快實(shí)現(xiàn)我國(guó)高水平科技自立自強(qiáng)，某科技公司逐年加大高科技研發(fā)投入．圖1是該公司2013年至2022年的年份代碼x和年研發(fā)投入y（單位：億元）的散點(diǎn)圖，其中年份代碼1-10分別對(duì)應(yīng)年份2013-2022．

根據(jù)散點(diǎn)圖，分別用模型①y=bx+a,②

y

=

c

+

d

x

作為年研發(fā)投入y關(guān)于年份代碼x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程模型，并進(jìn)行殘差分析，得到圖2所示的殘差圖．結(jié)合數(shù)據(jù)，計(jì)算得到如下表所示的一些統(tǒng)計(jì)量的值：

y	t	10 ∑ i = 1 （ x i - x ） 2	10 ∑ i = 1 （ t i - t ） 2	10 ∑ i = 1 （ y i - y ） （ x i - x ）	10 ∑ i = 1 （ y i - y ） （ t i - t ）
75	2.25	82.5	4.5	120	28.35

表中

t

i

=

x

i

，

t

=

1

10

10

∑

i

=

1

t

i

．
（1）根據(jù)殘差圖，判斷模型①和模型②哪一個(gè)更適宜作為年研發(fā)投入y關(guān)于年份代碼x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程模型？并說(shuō)明理由；
（2）根據(jù)（1）中所選模型，求出y關(guān)于x的經(jīng)驗(yàn)回歸方程，并預(yù)測(cè)該公司2028年的高科技研發(fā)投入．
附：對(duì)于一組數(shù)據(jù)（x₁，y₁），（x₂，y₂），?，（x_n，y_n），其經(jīng)驗(yàn)回歸直線

?

y

=

?

a

+

?

b

x??的斜率和截距的最小二乘估計(jì)分別為

?

b

=

n

∑

i

=

1

（

x

i

-

x

）

（

y

i

-

y

）

n

∑

i

=

1

（

x

i

-

x

）

2

，

?

a

=

y

-

?

b

x

．